Реферат: Реферат до декл пат на кор модель №

Реферат до декл пат на кор модель №


Автори: співробітники кафедри „Електропостачання промислових підприємств” (ЕПП), доцент, канд.техн. наук. Авдєєв І.В., аспірант Шрам О.А., технік 1 категорії Малишко С.Є., завідувач лабораторіями кафедри Вихованець В.В.

МПК С03С 17/06


СПОСІБ ПОВЕРХНЕВОЇ МОДИФІКАЦІЇ

СКЛА Й СКЛОВИРОБІВ


Винахід відноситься до галузі виробництва скла й склокераміки, зокрема, до хіміко-термічної обробки з використанням плазми дугового розряду й може бути використаний для декорування й поверхневої модифікації структури скла й скловиробів шляхом нанесення проникаючих покриттів, застосовуваних у різних галузях промисловості.

Технічним завданням пропонованого винаходу є забезпечення впровадження елементарних часток модифікуючого матеріалу (атомів і іонів) і рівномірного їхнього розподілу в дифузійному шарі, що дає зниження питомої витрати матеріалу впровадження при формуванні високоякісних проникаючих покриттів на поверхні скла з одночасним підвищенням продуктивності процесу. Крім того, висока продуктивність поверхневої обробки тривалістю від кількох секунд до декількох десятків секунд, а також необмежене коло вихідних модифікуючих матеріалів (солей та їхніх розчинів) забезпечують розширення технологічних можливостей процесу.

Вирішення цього завдання досягається тим, що в способі поверхневої модифікації скла й скловиробів, що включає подачу модифікуючого матеріалу у плазму дугового розряду й перенос його плазмовим потоком до поверхні виробу, що нагрівається. Причому модифікуючий матеріал перед подачею в плазму дугового розряду переводять у пароподібний стан, а температуру нагрівання вихідного модифікуючого матеріалу й напруженість електричного поля в плазмовому дуговому розряді вибирають відповідно до залежності:



де: Т1 – температура нагрівання модифікуючого матеріалу, К;

Т2 – температура розм'якшення скла, К;

к1 – коефіцієнт пропорційності, що зв'язує температуру розігріву оброблюваного скла (або скловиробу) із температурою його розм'якшення й дорівнює 0,8 – 1,3;

Е – напруженість електричного поля плазмового дугового розряду, В/м;

L – довжина плазмового дугового розряду, м;

І – величина сили струму дугового розряду, А;

 – к.к.д. використання потужності дугового розряду;

G – витрата плазмоутворюючого газу, г/с;

CPi – питома теплоємність плазмоутворюючого газу при атмосферному тиску, ккал/(кг*К);

к2 – коефіцієнт пропорційності, що зв'язує температуру іонізації модифікуючого матеріалу з його потенціалом іонізації й дорівнює 800;

Ui – потенціал іонізації модифікуючого матеріалу, В.

З метою розширення технологічних можливостей процесу, як вихідний матеріал використовують солі модифікуючих матеріалів, а також їх розчини.